Hochreine Halbleiter-Aluminium-Keramik-Arm für Wafer-Handling Präzisions-Automatisierung
Markenname:
XQCERA
Modellnummer:
Anpassung
Herkunftsort:
Hunan, China
Zertifizierung:
IATF16949;ISO9001
Mindestbestellmenge:
100
Preis:
Customization
Lieferzeit:
20-30 Arbeitstage
Zahlungsbedingungen:
TT-Überweisung
Standardverpackung:
Karton; Palette
Produktdetails
Hervorheben:
Halbleiter-Aluminium-Keramikarm
,Hochreine Alumina-Keramikarm
,Aluminiumkeramischer Halbleiterarm
Material:
Aluminiumoxidkeramik (Al₂O₃)
Density:
3,6–3,9 g/cm³
Hardness:
≥85–90 HRA
Max Working Temperature:
1600–1700°C
Surface Finish:
Geschliffen / poliert / geläppt
Thermal Shock Resistance:
Exzellent
Electrical Insulation:
Exzellent
Corrosion Resistance:
Exzellent
Customization:
Größe, Toleranz, Durchmesser, Dicke, Löcher, Metallisierung optional
Content:
Al₂O₃ (90 % / 92 % / 95 % / 99 % / 99,8 % Aluminiumoxid verfügbar)
Flexural Strength:
300–500 MPa
Compressive Strength:
≥ 2000 MPa
Wear Resistance:
Exzellent
Precision Tolerance:
±0,001–0,03 mm
Color:
Weiß/Elfenbein
Beschreibung des Produkts
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen
Hochreine Halbleiter-Aluminium-Keramik-Arm für Wafer-Handling und Präzisionsautomation
Konzipiert für eine überlegene Leistung in Halbleiterherstellungsumgebungen,Dieser hochreine Aluminium-Keramikarm bietet eine außergewöhnliche Zuverlässigkeit für Wafer-Handling und Präzisions-Automatisierungsanwendungen.entworfen, um die strengen Anforderungen von Reinraumbetrieben und fortgeschrittener Halbleiterverarbeitung zu erfüllen.
Wesentliche Merkmale
Aluminium-Keramikkonstruktionen mit hoher Reinheit
Außergewöhnliche Verschleißfestigkeit und Langlebigkeit
Überlegene chemische Beständigkeit gegen Verfahrenschemikalien
Mindestpartikelgenerierung für die Kompatibilität in Reinräumen
Hohe Temperaturstabilität und Wärmeschlagfestigkeit
Präzisionstechnik für die genaue Positionierung der Wafer
Ausgezeichnete elektrische Dämmungseigenschaften
Anwendungen
Halbleiter-Waferbehandlungssysteme
Ausrüstung für die Präzisionsautomation
Herstellungsprozesse für Reinräume
Anwendungen in Vakuumkammern
Roboter-Endwirkungssysteme
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