Anneau céramique d'alumine Al2O3 multicouche pour joint d'étanchéité hermétique de semi-conducteurs, résistance au plasma
Nom de la marque:
XQCERA
Numéro de modèle:
Personnalisation
Lieu d'origine:
Hunan, Chine
Certification:
IATF16949;ISO9001
MOQ:
100
Prix:
Customization
Délai de livraison:
20-30 jours ouvrables
Conditions de paiement:
Virement bancaire TT
Emballage standard:
Carton ; Palette
Détails du produit
Mettre en évidence:
Anneau céramique d'alumine multicouche
,Anneau céramique d'alumine pour semi-conducteurs
,Anneau céramique d'alumine Al2O3
Material:
Céramique d'alumine (Al₂O₃)
Density:
3,6 à 3,9 g/cm³
Hardness:
≥85-90 HRA
Max Working Temperature:
1 600–1 700 °C
Surface Finish:
Meulé / Poli / Rodé
Thermal Shock Resistance:
Excellent
Electrical Insulation:
Excellent
Corrosion Resistance:
Excellent
Customization:
Taille, tolérance, diamètre, épaisseur, trous, métallisation en option
Content:
Al₂O₃ (90% / 92% / 95% / 99% / 99,8% d'alumine disponible)
Flexural Strength:
300 à 500 MPa
Compressive Strength:
≥ 2000 MPa
Wear Resistance:
Excellent
Precision Tolerance:
±0,001–0,03 mm
Color:
Blanc/en ivoire
Description du produit
Spécifications détaillées et caractéristiques
Anneau céramique multicouche en alumine (Al₂O₃) pour applications de semi-conducteurs
Anneaux en céramique d'alumine multicouche haute performance conçus spécifiquement pour les processus de fabrication de semi-conducteurs. Ces composants offrent une résistance au plasma exceptionnelle, des capacités d'étanchéité hermétiques et une pureté ultra élevée requise pour les applications exigeantes de gravure et de chambre CVD.
Construction en céramique Al₂O₃ de haute pureté pour les applications de qualité semi-conductrice
Résistance supérieure au plasma dans les environnements agressifs de gravure et de CVD
Propriétés d'étanchéité hermétiques fiables pour l'intégrité de la chambre
Conception multicouche pour des performances mécaniques et thermiques améliorées
Excellentes propriétés diélectriques et stabilité thermique
Matériel:
Alumine de haute pureté (Al₂O₃)
Construction:
Céramique multicouche
Application:
Chambres de traitement des semi-conducteurs
Compatibilité des processus :
Gravure, CVD, procédés plasma
Applications principales :
Composants de chambre de gravure, joints de système CVD, équipements de traitement au plasma, outils de fabrication de semi-conducteurs et applications sous vide poussé nécessitant des performances céramiques fiables.
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