Anillo cerámico de alumina de Al2O3 de múltiples capas para sello hermético de semiconductores Resistencia al plasma
Nombre de la marca:
XQCERA
Número de modelo:
Personalización
Lugar de origen:
Hunan, China
Certificación:
IATF16949;ISO9001
Cantidad mínima de pedido:
100
Precio:
Customization
El tiempo de entrega:
20-30 días hábiles
Condiciones de pago:
transferencia bancaria TT
Embalaje estándar:
Cartón; Plataforma
Detalles del producto
Resaltar:
Anillo de cerámica de alumina de capas múltiples
,Anillo de cerámica de alumina de semiconductores
,Anillo de cerámica de alumina de Al2O3
Material:
Cerámica de alúmina (Al₂O₃)
Density:
3,6–3,9 g/cm³
Hardness:
≥85–90 HRA
Max Working Temperature:
1600–1700°C
Surface Finish:
Molido / Pulido / Lapeado
Thermal Shock Resistance:
Excelente
Electrical Insulation:
Excelente
Corrosion Resistance:
Excelente
Customization:
Tamaño, tolerancia, diámetro, espesor, agujeros, metalización opcional.
Content:
Al₂O₃ (90% / 92% / 95% / 99% / 99,8% alúmina disponible)
Flexural Strength:
300–500 MPa
Compressive Strength:
≥ 2000 MPa
Wear Resistance:
Excelente
Precision Tolerance:
±0,001–0,03 mm
Color:
Blanco/de marfil
Descripción del producto
Especificaciones y Características Detalladas
Anillo cerámico de alúmina (Al₂O₃) multicapa para aplicaciones de semiconductores
Anillos cerámicos de alúmina multicapa de alto rendimiento diseñados específicamente para procesos de fabricación de semiconductores. Estos componentes ofrecen una resistencia excepcional al plasma, capacidades de sellado hermético y una pureza ultra alta requerida para aplicaciones exigentes en cámaras de grabado y CVD.
Construcción cerámica de Al₂O₃ de alta pureza para aplicaciones de grado semiconductor
Resistencia superior al plasma en entornos agresivos de grabado y CVD
Propiedades de sellado hermético fiables para la integridad de la cámara
Diseño multicapa para un rendimiento mecánico y térmico mejorado
Excelentes propiedades dieléctricas y estabilidad térmica
Material:
Alúmina de alta pureza (Al₂O₃)
Construcción:
Cerámica multicapa
Aplicación:
Cámaras de proceso de semiconductores
Compatibilidad de procesos:
Grabado, CVD, procesos de plasma
Aplicaciones principales:
Componentes de cámaras de grabado, sellos de sistemas CVD, equipos de procesamiento de plasma, herramientas de fabricación de semiconductores y aplicaciones de alto vacío que requieren un rendimiento cerámico fiable.
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