Anel cerâmico de alumina Al2O3 multicamadas para vedação hermética de semicondutores, resistência ao plasma
Marca:
XQCERA
Número do modelo:
Personalização
Local de Origem:
Hunan, China
Certificação:
IATF16949;ISO9001
Quantidade mínima:
100
Preço:
Customization
Prazo de entrega:
20-30 dias úteis
Condições de pagamento:
Transferência bancária TT
Embalagem padrão:
Caixa; Pálete
Detalhes do produto
Destacar:
Anel de cerâmica de alumínio multicamadas
,Anel de cerâmica de alumínio semicondutor
,Anel de cerâmica de alumínio Al2O3
Material:
Cerâmica de Alumina (Al₂O₃)
Density:
3,6–3,9 g/cm³
Hardness:
≥85–90 HRA
Max Working Temperature:
1600–1700°C
Surface Finish:
Rectificado / Polido / Lapidado
Thermal Shock Resistance:
Excelente
Electrical Insulation:
Excelente
Corrosion Resistance:
Excelente
Customization:
Tamanho, tolerância, diâmetro, espessura, furos, metalização opcional
Content:
Al₂O₃ (90% / 92% / 95% / 99% / 99,8% de alumina disponível)
Flexural Strength:
300–500MPa
Compressive Strength:
≥ 2000 MPa
Wear Resistance:
Excelente
Precision Tolerance:
±0,001–0,03mm
Color:
Branco/marfim
Descrição do produto
Especificações e características pormenorizadas
Anel cerâmico de alumina multicamada (Al₂O₃) para aplicações de semicondutores
Anéis cerâmicos de alumina multicamadas de alto desempenho projetados especificamente para processos de fabricação de semicondutores. Esses componentes oferecem excepcional resistência ao plasma, capacidade de vedação hermética e pureza ultra-alta necessária para aplicações exigentes em câmaras de corrosão e CVD.
Construção cerâmica de Al₂O₃ de alta pureza para aplicações de grau semicondutor
Resistência superior ao plasma em ambientes agressivos de corrosão e CVD
Propriedades de vedação hermética confiáveis para integridade da câmara
Design multicamadas para melhor desempenho mecânico e térmico
Excelentes propriedades dielétricas e estabilidade térmica
Material:
Alumina de alta pureza (Al₂O₃)
Construção:
Cerâmica Multicamadas
Aplicativo:
Câmaras de Processo de Semicondutores
Compatibilidade de Processo:
Etch, CVD, processos de plasma
Aplicações primárias:
Componentes de câmaras de corrosão, vedações de sistemas CVD, equipamentos de processamento de plasma, ferramentas de fabricação de semicondutores e aplicações de alto vácuo que exigem desempenho cerâmico confiável.
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