Mehrschichtiger Al2O3-Aluminiumoxid-Keramikring für Halbleiter-Hermetikdichtung, Plasmabeständigkeit
Markenname:
XQCERA
Modellnummer:
Anpassung
Herkunftsort:
Hunan, China
Zertifizierung:
IATF16949;ISO9001
Mindestbestellmenge:
100
Preis:
Customization
Lieferzeit:
20-30 Arbeitstage
Zahlungsbedingungen:
TT-Überweisung
Standardverpackung:
Karton; Palette
Produktdetails
Hervorheben:
Mehrschichtiger Aluminiumoxid-Keramikring
,Halbleiter-Aluminiumoxid-Keramikring
,Al2O3-Aluminiumoxid-Keramikring
Material:
Aluminiumoxidkeramik (Al₂O₃)
Density:
3,6–3,9 g/cm³
Hardness:
≥85–90 HRA
Max Working Temperature:
1600–1700°C
Surface Finish:
Geschliffen / poliert / geläppt
Thermal Shock Resistance:
Exzellent
Electrical Insulation:
Exzellent
Corrosion Resistance:
Exzellent
Customization:
Größe, Toleranz, Durchmesser, Dicke, Löcher, Metallisierung optional
Content:
Al₂O₃ (90 % / 92 % / 95 % / 99 % / 99,8 % Aluminiumoxid verfügbar)
Flexural Strength:
300–500 MPa
Compressive Strength:
≥ 2000 MPa
Wear Resistance:
Exzellent
Precision Tolerance:
±0,001–0,03 mm
Color:
Weiß/Elfenbein
Beschreibung des Produkts
Detaillierte Spezifikationen & Funktionen
Mehrschichtiger Keramikring aus Alumin (Al2O3) für Halbleiteranwendungen
Hochleistungsringe aus mehrschichtiger Aluminiumkeramik, speziell für Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt.Hermetische Dichtungsfähigkeiten, und für anspruchsvolle Ätz- und CVD-Kammeranwendungen erforderliche ultrahohe Reinheit.
Hochreine Al2O3-Keramikkonstruktionen für Halbleiteranwendungen
Überlegene Plasmabeständigkeit in aggressiven Ätz- und Herz-Kreislauf-Umgebungen
Zuverlässige hermetische Dichtungseigenschaften für die Kammerintegrität
Mehrschichtendes Design für eine verbesserte mechanische und thermische Leistung
Ausgezeichnete dielektrische Eigenschaften und thermische Stabilität
Material:
Hochreines Aluminiumoxid (Al2O3)
Bauwesen:
Keramik mit mehreren Schichten
Anwendung:
Halbleiterprozesskammern
Prozesskompatibilität:
Etch, Herz-Kreislauf-Krankheiten, Plasmaprozesse
Hauptanwendungen:
Etch-Kammerkomponenten, CVD-Systemdichtungen, Plasmaverarbeitungsgeräte, Halbleiter-Herstellungswerkzeuge und Hochvakuumanwendungen, die zuverlässige keramische Leistung erfordern.
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