다층 Al2O3 알루미나 세라믹 링 반도체 헤르메틱 밀폐 플라즈마 저항
브랜드 이름:
XQCERA
모델 번호:
맞춤화
원산지:
중국 후난성
인증:
IATF16949;ISO9001
MOQ:
100
가격:
Customization
배달 시간:
20-30 근무일
지불 조건:
TT 은행 송금
표준 포장:
통 ; 팔레트
제품 세부 사항
강조하다:
다층 알루미나 세라믹 링
,반도체 알루미나 세라믹 링
,Al2O3 알루미나 세라믹 링
Material:
알루미나 세라믹(Al₂O₃)
Density:
3.6~3.9g/cm³
Hardness:
≥85–90HRA
Max Working Temperature:
1600~1700°C
Surface Finish:
지상/광택/랩핑
Thermal Shock Resistance:
훌륭한
Electrical Insulation:
훌륭한
Corrosion Resistance:
훌륭한
Customization:
크기, 공차, 직경, 두께, 구멍, 금속화 옵션
Content:
Al2O₃ (90% / 92% / 95% / 99% / 99.8% 알루미나 사용 가능)
Flexural Strength:
300~500MPa
Compressive Strength:
≥2000 MPa
Wear Resistance:
훌륭한
Precision Tolerance:
±0.001~0.03mm
Color:
하얀 / 아이보리
제품 설명
세부 사양 및 특징
반도체 응용용 다층 알루미나 (Al2O3) 세라믹 링
반도체 제조 공정에 특별히 설계된 고성능의 다층 알루미나 세라믹 반지압축성 밀폐 능력, 그리고 까다로운 에치 및 CVD 챔버 애플리케이션에 필요한 초고 순도.
반도체용 고순도 Al2O3 세라믹 구조물
공격적 인 에치 및 CVD 환경에서 우수한 플라스마 저항성
방의 무결성을 위한 신뢰할 수 있는 허르메틱 밀폐 특성
기계 및 열 성능을 향상시키기 위한 다층 설계
우수한 다이 일렉트릭 특성 및 열 안정성
소재:
고순도 알루미나 (Al2O3)
건설:
다층 세라믹
적용:
반도체 처리실
프로세스 호환성:
에치, CVD, 플라즈마 공정
주요 응용 분야:
에치 챔버 부품, CVD 시스템 밀폐, 플라즈마 처리 장비, 반도체 제조 도구 및 신뢰할 수있는 세라믹 성능을 요구하는 고 진공 응용 프로그램.
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