半導体用気密シールプラズマ耐性多層Al2O3アルミナセラミックリング
ブランド名:
XQCERA
モデル番号:
カスタマイズ
原産地:
湖南省、中国
認証:
IATF16949;ISO9001
MOQ:
100
価格:
Customization
納期:
20〜30営業日
支払い条件:
TT電信送金
標準梱包:
カートン;パレット
製品の詳細
ハイライト:
多層アルミナセラミックリング
,半導体アルミナセラミックリング
,Al2O3アルミナセラミックリング
Material:
アルミナセラミック(Al₂O₃)
Density:
3.6 ～ 3.9 g/cm3
Hardness:
≥85 ～ 90 HRA
Max Working Temperature:
1600～1700℃
Surface Finish:
研磨 / 研磨 / ラップ仕上げ
Thermal Shock Resistance:
素晴らしい
Electrical Insulation:
素晴らしい
Corrosion Resistance:
素晴らしい
Customization:
サイズ、公差、直径、厚さ、穴、メタライゼーションオプション
Content:
Al₂O₃ (90% / 92% / 95% / 99% / 99.8% アルミナも利用可能)
Flexural Strength:
300～500MPa
Compressive Strength:
≥2000 MPa
Wear Resistance:
素晴らしい
Precision Tolerance:
±0.001～0.03mm
Color:
白い/アイボリー
製品説明
詳細な仕様と特徴
半導体用途のための多層アルミナ (Al2O3) セラミックリング
高性能な多層アルミニウムセラミックリングは 半導体製造プロセスのために 特別に設計されています密閉式密封能力要求の高いエッチとCVD室アプリケーションに必要な超高純度です
高純度Al2O3セラミック・コンストラクション
攻撃的なエッチおよびCVD環境における優れたプラズマ抵抗性
室内完整性を保証する信頼性の高い密封性
機械的および熱性能向上のための多層設計
優れた介電特性と熱安定性
材料:
高純度アルミナ (Al2O3)
建設:
多層セラミック
適用:
半導体処理室
プロセスの互換性:
エッチ,CVD,プラズマプロセス
主要用途:
切断室部品,CVDシステムシール,プラズマ処理機器,半導体製造ツール,信頼性の高いセラミック性能を必要とする高真空アプリケーション
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