Piastra di sinterizzazione / supporto in ceramica di allumina ad alta purezza per resistori a chip MLCC
Piastra di sinterizzazione in ceramica di allumina
,Ceramica di allumina ad alta purezza
,Piastra di supporto in ceramica di allumina
Le nostre piastre di sinterizzazione in ceramica sono substrati progettati con precisione progettati per processi di sinterizzazione ad alta temperatura in diversi settori. Realizzate utilizzando materiali ceramici avanzati, queste piastre forniscono eccezionale stabilità termica, resistenza chimica e uniformità dimensionale in ambienti di produzione esigenti.
| Parametro | Allumina (Al₂O₃) | Zirconia (ZrO₂) | Carburo di silicio (SiC) | Nitruro di alluminio (AlN) |
|---|---|---|---|---|
| Purezza | 96%, 99%, 99,5% | 95% YSZ, 99% TZP | 98%, 99% | 95%, 99% |
| Temperatura massima di servizio | 1600°C | 1500°C | 1650°C | 1800°C |
| Coefficiente di dilatazione termica | 7,2*10⁻⁶/K | 10,5*10⁻⁶/K | 4,5*10⁻⁶/K | 4,5*10⁻⁶/K |
| Conducibilità termica | 25-35 W/m·K | 2-3 W/m·K | 80-120 W/m·K | 140-180 W/m·K |
| Resistenza alla flessione | 300-400MPa | 800-1200MPa | 400-500MPa | 300-400MPa |
| Finitura superficiale | Ra 0,4-1,6μm | Ra 0,2-0,8μm | Ra 0,4-1,2μm | Ra 0,4-1,6μm |
| Tolleranza di planarità | ±0,1% | ±0,05% | ±0,1% | ±0,08% |
| Spessore standard | 5-50 mm | 3-30 mm | 6-60 mm | 4-40mm |
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Ideale per:Sinterizzazione generale, ceramica elettronica
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Efficienza dei costi:Opzione più economica
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Caratteristiche:Buona resistenza agli shock termici, ottimo isolamento elettrico
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Applicazioni tipiche:Substrati PCB, condensatori ceramici, isolanti per candele
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Ideale per:Requisiti ad alta resistenza, ceramica dentale/medica
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Caratteristica fondamentale:Meccanismo di rafforzamento della trasformazione
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Vantaggi:La più alta resistenza alla frattura tra le ceramiche
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Applicazioni:Corone dentali, impianti biomedici, utensili da taglio
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Ideale per:Processi a temperatura ultraelevata, cicli termici rapidi
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Proprietà superiori:Eccezionale conducibilità termica, resistenza all'usura
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Applicazioni:Lavorazione di wafer semiconduttori, metallurgia, arredamento di forni
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Ideale per:Applicazioni elettroniche ad alta potenza
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Caratteristica unica:Elevata conduttività termica con isolamento elettrico
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Applicazioni:Substrati LED, moduli di potenza, portanti diodi laser
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Porosità:10-40% personalizzabile
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Dimensione dei pori:Intervallo 1-100 μm
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Applicazioni:Sinterizzazione di filtri, supporti per catalizzatori, scaffold biomedici
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Materiali:Allumina, Zirconia, Idrossiapatite
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Costruzione:3-10 strati di ceramica con gradienti CTE controllati
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Vantaggi:Elimina la deformazione, riduce lo stress termico
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Applicazioni:Processi LTCC/HTCC, sinterizzazione di condensatori multistrato
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Rivestimenti:Disponibili rivestimenti BN, AlN, Si₃N₄, Y₂O₃
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Vantaggi:Superficie antiaderente, facile rilascio, prevenzione della contaminazione
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Applicazioni:Metallurgia delle polveri, parti MIM, leghe speciali