2025-12-23
In de ultragevoelige wereld van de halfgeleiderproductie kunnen kamermaterialen de opbrengst bepalen of breken. Geavanceerde keramiek is onmisbaar vanwege de unieke combinatie van eigenschappen.
- Ultrahoge zuiverheid:Kwaliteiten zoals 99,8%+ aluminiumoxide zijn zo ontworpen dat ze minimale verontreiniging met metaalionen hebben, waardoor dopingdefecten in de wafer worden voorkomen.
- Weerstand tegen plasma-etsen:Cruciaal voor componenten in ets- en CVD/PVD-kamers. Gespecialiseerde keramiek zoals yttriumoxide (Y₂O₃) of aluminiumoxide-yttriumoxide-composieten zijn veel beter bestand tegen agressieve gefluoreerde plasma's dan metalen of kwarts.
- Thermisch beheer:Aluminiumnitride (AlN) biedt een hoge thermische geleidbaarheid (~180 W/mK) voor het effectief verwarmen of koelen van wafers op klauwplaten.
- Dimensionale stabiliteit:Behoud nauwkeurige toleranties en vlakheid tijdens herhaalde thermische cycli (tot 400°C+), waardoor consistente procesresultaten worden gegarandeerd.
- Elektrostatische klauwplaten (ESC's):Basissen van aluminiumoxide of AlN die wafers vasthouden met een elektrostatische kracht.
- Gasdistributiesystemen:"Douchekoppen" en diffusers gemaakt van plasmabestendig keramiek voor een uniforme gasstroom.
- Kamervoeringen en verbruiksartikelen:Bescherm de permanente kamerwanden tegen procesafzetting en erosie.
- Waferbehandeling:Eindeffectors, paddles en pinnen die de vorming van deeltjes en statische elektriciteit minimaliseren.
De kosten van falen:Het genereren van deeltjes of metaalverontreiniging uit een kameronderdeel kan leiden tot een volledige partij schroot, wat honderdduizenden dollars kost. Dit zorgt ervoor dat de betrouwbaarheid en zuiverheid van keramische componenten direct bijdragen aan de winstgevendheid van de fabriek.
Conclusie:Bij de productie van halfgeleiders is keramiek niet zomaar een materiaal; ze vormen een fundamentele technologie die de voortdurende miniaturisering en prestatieverbeteringen van microchips mogelijk maakt.
