Vai trò quan trọng của Gốm sứ độ tinh khiết cao trong sản xuất chất bán dẫn

Trong thế giới cực kỳ nhạy cảm của sản xuất bán dẫn, các vật liệu khoang có thể tạo ra hoặc phá vỡ năng suất.

1. Độ tinh khiết cực cao:Các loại như 99,8% + alumina được thiết kế để có sự ô nhiễm ion kim loại tối thiểu, ngăn ngừa các khiếm khuyết doping wafer.
2. Phòng chống đục plasma:Quan trọng đối với các thành phần bên trong các buồng khắc và CVD / PVD.Các loại gốm đặc biệt như yttria (Y2O3) hoặc hợp chất alumina-yttria chịu được plasma fluor hóa mạnh hơn nhiều so với kim loại hoặc thạch anh.
3. Quản lý nhiệt:Aluminum Nitride (AlN) cung cấp độ dẫn nhiệt cao (~ 180 W / mK) để làm nóng hoặc làm mát hiệu quả các miếng trên chuck.
4. Sự ổn định kích thước:Duy trì độ khoan dung và độ phẳng chính xác trong các chu kỳ nhiệt lặp đi lặp lại (lên đến 400 °C +), đảm bảo kết quả quy trình nhất quán.

• Các chuck điện tĩnh (ESC):Alumina hoặc AlN cơ sở giữ wafer với một lực điện tĩnh.
• Hệ thống phân phối khí:"Các đầu tắm" và các bộ khuếch tán được làm từ gốm kháng plasma để có dòng khí đồng đều.
• Bộ lót và vật liệu tiêu thụ:Bảo vệ các bức tường buồng vĩnh viễn khỏi lắng đọng quá trình và xói mòn.
• Xử lý Wafer:Các hiệu ứng cuối cùng, lưỡi chèo và chân để giảm thiểu sự phát sinh hạt và tĩnh.

Chi phí thất bại:Việc tạo ra các hạt hoặc ô nhiễm kim loại từ một thành phần của buồng có thể dẫn đến một lô phế liệu đầy đủ, tốn hàng trăm ngàn đô la.Điều này làm cho độ tin cậy và độ tinh khiết của các thành phần gốm đóng góp trực tiếp vào lợi nhuận của nhà máy.

Kết luận:Trong sản xuất bán dẫn, gốm sứ không chỉ là một vật liệu khác; chúng là một công nghệ nền tảng cho phép thu nhỏ và tăng hiệu suất liên tục của vi mạch.