반도체 제조 에 있어서 고순도 세라믹 의 결정적 인 역할

정확성, 순수성, 플라스마 저항성

반도체 제조의 초 민감한 세계에서, 챔버 재료는 양을 만들거나 파괴 할 수 있습니다. 고급 세라믹은 특유의 특성 조합으로 인해 필수적입니다.

왜 세라믹이 공제품에 필수적인가:

초고 순수성:99.8%+ 알루미나 같은 등급은 최소한의 금속 이온 오염을 위해 설계되어 웨이퍼 도핑 결함을 방지합니다.
플라즈마 엣치 저항:에칭 및 CVD/PVD 챔버 안의 부품에 있어 매우 중요합니다.유트리아 (Y2O3) 또는 알루미나-유트리아 복합물 같은 특수 세라믹은 금속이나 쿼츠보다 훨씬 더 공격적인 플루오린 플라즈마에 견딜 수 있습니다..
열 관리:알루미늄 나이트라이드 (AlN) 는 턱에 있는 웨이퍼를 효과적으로 가열하거나 냉각하기 위해 높은 열전도 (~ 180 W/mK) 를 제공합니다.
차원 안정성:반복 된 열 주기 (최고 400 °C +) 에서 정확한 허용도와 평면성을 유지하여 일관성있는 프로세스 결과를 보장합니다.

주요 반도체 응용 프로그램:

전기 정적 턱 (ESC):알루미나 또는 AlN 기체로 전극적 힘으로 웨이퍼를 잡습니다.
가스 분배 시스템:유동 가스 흐름을 위해 플라즈마 내성 세라믹으로 만든 "저수장" 및 디프루저.
룸 라인러 및 소모품:영구적인 방의 벽을 처리 퇴적 및 침식으로부터 보호합니다.
웨이퍼 처리:최종 효과제, 패들, 그리고 핀은 입자 생성과 정성을 최소화합니다.

실패 의 대가:방의 부품에서 입자 발생이나 금속 오염은 수백만 달러에 달하는 전체 롯데 폐기물로 이어질 수 있습니다.이것은 세라믹 부품의 신뢰성 및 순수성을 공장 수익성에 직접적으로 기여합니다..

결론:반도체 제조에서, 세라믹은 단순히 다른 재료가 아닙니다. 그들은 마이크로 칩의 지속적인 소형화와 성능 향상을 가능하게 하는 기초 기술입니다.