Cincin Keramik Alumina Al2O3 Multilapis Memberikan Ketahanan Plasma Unggul untuk Ruang Etch Semikonduktor Eropa dan Ruang CVD

Cincin Keramik Lanjutan untuk Keunggulan Manufaktur Semikonduktor Eropa

XQCERA mengumumkan ketersediaan kinerja tinggiRingan Keramik Al2O3 Alumina berlapis-lapisDengan industri semikonduktor Eropa berkembang pesat di bawah UU Chip UE, permintaan untukKomponen kamar kemurnian tinggi tidak pernah lebih besar.

Dirancang untuk Kinerja Tingkat Semikonduktor

Plasma etch dan proses CVD menghadapkan komponen ruang ke kondisi ekstrim - plasma berbasis fluor dan klorin yang agresif, siklus termal, dan lingkungan vakum yang sangat tinggi.XQCERA multilayer alumina ceramic ring dirancang untuk unggul dalam kondisi yang ketat ini, menyediakan:

• Resistensi Plasma Superior:Konstruksi Al2O3 dengan kemurnian tinggi tahan terhadap kimia plasma fluor dan klorin yang agresif tanpa degradasi atau pembentukan partikel
• Penutup Hermetik:Teknik presisi untuk integritas vakum yang dapat diandalkan di ruang etch dan deposisi
• Ultra-High Purity:Kandungan kotoran rendah mencegah kontaminasi wafer - penting untuk manufaktur semikonduktor simpul canggih
• Desain multilayer:Performa mekanik dan manajemen termal yang ditingkatkan melalui arsitektur lapisan terkontrol
• Sifat Dielektrik yang sangat baik:Isolasi listrik yang unggul untuk lingkungan RF dan plasma

Spesifikasi Teknis

Kesesuaian ekosistem semikonduktor Eropa

• Kompatibel dengan platform etch dan CVD terkemuka yang digunakan oleh produsen semikonduktor Eropa
• Cocok untuk lingkungan pengolahan wafer 200mm dan 300mm
• Dimensi khusus tersedia untuk desain ruang khusus dan persyaratan OEM
• Bantuan prototipe cepat dan kualifikasi untuk produsen peralatan Eropa

XQCERA menawarkan dokumentasi teknis lengkap, sertifikasi bahan, dan dukungan teknik aplikasi.kami berada di posisi untuk mendukung baik skala R & D dan kebutuhan produksi volume dari pelanggan semikonduktor Eropa.