El anillo cerámico de alúmina Al2O3 multicapa ofrece una resistencia superior al plasma para cámaras de grabado y CVD de semiconductores europeas
2026/06/21
Anillos cerámicos avanzados para la excelencia en la fabricación de semiconductores en Europa
XQCERA anuncia la disponibilidad de su alto rendimientoAnillo de cerámica de alúmina multicapa Al2O3, diseñado específicamente para aplicaciones de cámara CVD y grabado por plasma de semiconductores. Con la rápida expansión de la industria europea de semiconductores bajo la Ley de Chips de la UE, la demanda de componentes de cámara confiables y de alta pureza nunca ha sido mayor.
Diseñado para un rendimiento de grado semiconductor
Los procesos de grabado con plasma y CVD someten los componentes de la cámara a condiciones extremas: plasmas agresivos a base de flúor y cloro, ciclos térmicos y entornos de vacío ultraalto. Los anillos cerámicos de alúmina multicapa de XQCERA están diseñados para sobresalir en estas condiciones exigentes, proporcionando:
- Resistencia superior al plasma:La construcción de Al2O3 de alta pureza resiste las químicas agresivas del plasma de flúor y cloro sin degradación ni generación de partículas.
- Sellado hermético:Diseñado con precisión para una integridad confiable del vacío en cámaras de grabado y deposición
- Pureza ultraalta:El bajo contenido de impurezas evita la contaminación de las obleas, algo fundamental para la fabricación avanzada de semiconductores de nodos
- Diseño multicapa:Rendimiento mecánico y gestión térmica mejorados a través de una arquitectura de capa controlada
- Excelentes propiedades dieléctricas:Aislamiento eléctrico superior para entornos de plasma y RF
Especificaciones técnicas
| Parámetro | Especificación |
|---|---|
| Material | Alúmina de alta pureza (Al2O3) |
| Construcción | Cerámica multicapa |
| Compatibilidad de procesos | Grabado, CVD, procesos de plasma |
| Temperatura máxima de trabajo | 1600-1700C |
| Resistencia al choque térmico | Excelente |
| Certificaciones | IATF16949, ISO9001 |
Ajuste del ecosistema europeo de semiconductores
- Compatible con las principales plataformas de grabado y CVD utilizadas por los fabricantes europeos de semiconductores.
- Adecuado para entornos de procesamiento de obleas de 200 mm y 300 mm
- Dimensiones personalizadas disponibles para diseños de cámara específicos y requisitos de OEM
- Soporte rápido de creación de prototipos y cualificación para fabricantes de equipos europeos
XQCERA ofrece documentación técnica completa, certificación de materiales y soporte de ingeniería de aplicaciones. Con MOQ flexible y entrega en 20 a 30 días, estamos posicionados para satisfacer los requisitos tanto de escala de I+D como de volumen de producción de los clientes europeos de semiconductores.
